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RIE-PE刻蝕機是一種高精度的半導體加工設備，被廣泛應用于集成電路、MEMS和納米器件制造等領域。RIE-PE刻蝕技術是通過刻蝕氣體的等離子體在材料表面產生化學反應和物理作用，從而實現高精度的微米、亞微米和納米級圖形加工的一種高效的方法。基本原理是利用等離子體在氧化物表面引起化學反應的方式進行淺刻蝕，然后使用惰性氣體進行深刻蝕。這種刻蝕方法在半導體器件制造中得到了廣泛應用，可實現精度在上微米（NM）量級以上的高精度加工。主要特點是能夠控制等離子體的氣氛、壓力、功率、速率等參...

微波等離子去膠機是一種利用微波輻射和等離子技術將膠水分解、熱分解或氧化分解成氣態或液態的設備，主要用于去除化學膠、丙烯酸膠、雙面膠、硅膠等膠水。一、工作原理工作原理是：使用微波輻射將膠水加熱，膠水分子振動并迅速升溫，膠水熱解并釋放出揮發性有機物，形成等離子體，并通過化學反應消除揮發性有機物，使膠水揮發，從而達到去除膠層的目的。二、使用方法1.準備工作（1）將微波等離子去膠機放置在干燥、通風位置。（2）檢查機器是否正常運行，確認電源和加熱是正常的。（3）將待去除膠水的物品放在去...

等離子去膠機具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。等離子去膠機主要性能：1.開放式設計，可快速加載和卸載晶圓。2.基片放置在石英上，以避免濺射/再沉積電極材料3.通過頂部電極上的“蓮蓬頭”進氣口將氣體注入工藝室4.電感耦合等離子體(ICP)和電極的獨立射頻發生器提供對離子能量和離子密...

微波等離子清洗機是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機的優勢：1、清洗對象經清洗機之后是干燥的，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高...

光學鍍膜系統無論是無機材料還是有機材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫（氧化硅）的摩擦都會造成鏡片磨損，在鏡片表面產生劃痕。與玻璃片相比，有機材料制成的硬性度比較低，更易產生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產生的劃痕，淺而細小，戴鏡者不容易察覺；另一種是由較大砂礫產生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區域則會影響視力。光學鍍膜系統特點分類：主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們在國民經濟和...

熱真空環境模擬試驗設備用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制、安全連鎖，以及多級密碼授權訪問保護的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統通常的應用之一是太空模擬。系統腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度可達/-1攝氏度。...

進口光學鍍膜機工作原理是在高真空狀態下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發源至被蒸發基片距離大，蒸發出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。進口光學鍍膜機產品優點及特點：1.配置電子束及電阻蒸發系統；2.電子槍在整個蒸發過程中膜料表面平整，蒸發分布均勻；3.配置石英晶體膜厚控制儀可實現成膜速度和鍍膜過程的自動控制；4.配置大功率離子源，保證膜層質量；5.總體結構設計合理，操作方便。進口光學鍍膜機的清...

掩模板清洗機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，微波等離子清洗機發生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。微波等...