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光學元件鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。光學元件鍍膜機使用步驟電控柜操作1.開水泵、氣源。2.開總電源。3.開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4.開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5.觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽...

鍍膜機設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。①檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。②打開總電源開關，設備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動抽真空機械泵。⑦開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。b.低真空表“2”...

進口微波去膠機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為計算機全自動控制的系統。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。進口微波去膠機系統控制：PC,Windows,RS232,USB,Ethernet(也適用于遠程控制)10.4”觸摸屏、圖形用戶界面WindowsOffice兼容存儲處理數據和錯誤信息，處理數據輸出工藝參數圖形曲線的監測自動或手...

熱真空系統具有計算機控制、安全連鎖，以及多級密碼授權訪問保護的功能。熱真空系統可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統zui通常的應用之一是太空模擬。熱真空系統腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度可達/-1攝氏度。加熱平臺安裝在滾軸上，可以方便拉出zui大到75%的長度...

進口掩模板清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統，可以zui大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。進口掩模板清洗機技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時保證在樣片的損...

等離子刻蝕反應離子刻蝕一體機又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中zui常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空...

NANO-CHINA那諾中國正式推出。我們將持續更新我們的產品資料，敬請關注。

那諾中國在化工儀器網正式落戶，并建設相應的個性化NANOCHINA17。隨著產品的陸續發布，那諾中國也正式展開了行業推廣的步伐。