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進口光學鍍膜機主要用途及應用范圍：主要用于鍍制增透膜、帶通膜和截止膜等各種膜系，能夠實現100層膜的超大型膜系鍍膜，也能滿足在樹脂鏡片上鍍制各種顏色的增透膜以及在太陽鏡片上鍍制紅、黃、藍、綠等顏色的反光膜，適用于大批量鍍各種高質量的光學膜和鋁膜,還適用于裝飾品的鍍膜，如七彩等顏色。進口光學鍍膜機產品優點及特點：?配置電子束及電阻蒸發系統；?電子槍在整個蒸發過程中膜料表面平整，蒸發分布均勻；?配置石英晶體膜厚控制儀可實現成膜速度和鍍膜過程的自動控制；?配置大功率離子源，保證膜層...

掩模板清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統，可以zui大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。掩模板清洗機技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的大化支持理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍...

熱真空試驗箱測試系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制、安全連鎖，以及多級密碼授權訪問保護的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統通常的應用之一是太空模擬。熱真空試驗箱腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度可達/-1...

NMC-4000(M)MOCVD設備概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5x10-7Torr極限真空)、PC全自動控制，*的安全互鎖。目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統，該系統可以集成...

進口ALD設備原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續以及無孔的特性，可以提供優異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現到大基片上。進口ALD設備特點：占地面積小計算機控制，Labview軟件全自動工藝控制360A厚的...

兆聲清洗機是以高頻(850kHz)振效應并結合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗為原理的清洗設備。兆聲清洗機不僅保存了超聲波清洗的優點，而且克服了它的不足。在清洗時，由換能器發出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。兆聲清洗機操作規程：1、遵守鑄造設備通用操作規程。2、工作前...

ICP刻蝕機是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實現范圍廣泛的刻蝕工藝，包括刻蝕III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介質材料、玻璃、石英、金屬，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。ICP刻蝕機主要特點：基于PC控制的立柜式百級ICP-RIE刻蝕系統，擁有快速的刻蝕能力；配套LabView軟件，菜單驅動，自動記錄數據；觸摸屏監控；全自動系統，帶安全聯...

微波等離子化學氣相沉積系統能夠沉積高質量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到z大可達6”直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產生偏壓。并可以支持加熱和循環冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有*氣體分布系統的平面中空陰極等離子源使得系統可以滿足廣大范圍的要求，無...