離子銑刻蝕系統是利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕，對固體器件進行微細加工。
離子銑刻蝕系統的原理：
氬氣在輝光放電原理的作用下被分解為氬離子，氬離子通過陽極電場的加速物理轟擊樣品表面來使得刻蝕的作用達到。往離子源放電室充入氬氣并且使其電離使得等離子體形成，然后通過柵極引出離子呈束狀并且加速，往工作室進入一定能量的離子束，往固體表面射向對固體表面原子進行轟擊，使材料原子發生濺射，使刻蝕目的達到，屬于純物理刻蝕。
離子銑刻蝕系統的技術指標：
各種金屬以及氧化物等復雜體系的刻蝕等為離子束刻蝕系統的主要應用，在物理，生物，化學，材料，電子等領域得到了非常廣泛的應用。
裝片：一片6英寸，向下兼容任意規格樣品
極限真空：8.5e-5帕(45分鐘從atm抽至5e-4帕)
基底冷卻溫度：5-25攝氏度
樣品臺旋轉：自轉9rpm，傾斜0-90度
離子能量：100-650電子伏特
束流密度：0.2-0.7毫安/平方厘米
刻蝕均勻性：±5%(4英寸)
離子銑刻蝕系統的主要用途：
物理刻蝕的方式為離子束刻蝕系統所采用，任何材料各向異性的刻蝕經過電場加速的離子束能夠實現，并且能夠按照傾角不同對側壁形貌進行調整與使被濺射材料的再沉積污染減少。
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更新時間：2022-04-24 
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