兆聲清洗機是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。
兆聲清洗機提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個基片上的分布。
兆聲清洗機具有以下特點：
1、械手或多機械手組合，實現(xiàn)工位工藝要求。
2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面，操作便利。
3、自動上下料臺，準(zhǔn)確上卸工件。
4、凈化烘干槽，*的烘干前處理技術(shù)，工作干燥無水漬。
5、全封閉外殼與抽風(fēng)系統(tǒng)，確保良好工作環(huán)境。
6、具備拋動清洗功能，保證清洗均勻。
7、全封閉清洗均勻。
8、全封閉外殼與抽風(fēng)系統(tǒng)，確保良好工作環(huán)境。
兆聲清洗機是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個基片上的分布。
掩模板清洗機技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
兆聲清洗機通過聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù)，系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進(jìn)一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數(shù)量降到了zui低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢，的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會有更大數(shù)量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒。
兆聲清洗機還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除，而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配項將會進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
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更新時間：2019-05-28 
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